Новая машина литографии Lslm-500 Step используется Встроенная схема

Индивидуализация: Доступный
Послепродажное обслуживание: 1 год
размер стружки: четыре дюйма, шесть дюймов, восемь дюймов, t

Products Details

  • Обзор
  • Подробные фотографии
  • Параметры продукта
  • Профиль компании
Обзор

Основная Информация.

Модель №.
LSLM 500
источник света экспозиции
с уф-излучением
используемая длина волны источника света
365 нм
разрешение проблем
500 нм, 400 нм и 300 нм были разработки
точность фокусировки
150 нм
множитель шкалы
1:5
режим экспозиции
проекция шага
однородность размера элемента (cdu)
±10%
Транспортная Упаковка
деревянный ящик
Характеристики
170 см*130 см*180 см.
Торговая Марка
резон
Происхождение
Китай

Описание Товара

Подробные фотографии

 

New Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated Circuit
Параметры продукта

 

Характеристики продукта

·Высокая точность;
·Настольный ПК, компактный, встроенный компьютер,
·Настраиваемое аппаратное и программное обеспечение для удовлетворения потребностей отрасли;
·Эластичность подходит для различных форм и басовин;


Введение в продукт

Литография LSLM-500 step — это устройство, используемое для создания интегральных схем (ics), которые могут образовывать миллионы микроскопических компонентов контура на поверхности крошечных силикополупроводниковых пластин, важной составляющей сложного процесса.
Основное применение: Литография STEP может использоваться для уменьшения масштаба шаблона маски на экспонируемую поверхность. Он может широко использоваться в разработке и производстве интегральных схем малого и среднего размера, полупроводниковых компонентов и поверхностно-акустических волновых устройств.
Основные характеристики: Шаблон маски можно уменьшить в 5 раза в той же пропорции до предэкспозиции; Минимальная ширина линии: 500 нм; может сотрудничать с различными моделями позитивени отрицательного светового сопротивления.
Материалы для напыления: Металлы Al, Cu, GR, Co, Fe, NI, Pt, AG, Ti, Ta; Сплав NiFe, cofe, CoFeBNiMn, FeMn, TbFeco: Оксиды MgO, и т.д.
Применение: Малые и средние интегральные схемы; полупроводниковые компоненты Разработка и производство поверхностных акустических волновых устройств;


Параметр спецификации
Проект Содержание
Размер стружки Четыре дюйма, шесть дюймов, восемь дюймов, двенадцать дюймов
Источник света УФ-СВЕТОДИОД
Источник света вейвленгермовое 365 нм
Разрешение проблем последовательно были разработаны 500 нм, 400 нм и 300 нм
Точность фокусировки 150 нм
Масштабный множитель 1:5
Режим экспозиции Проекция шага
Неполнота (CDU) ±10%
Размеры 170 см*130 см*180 см.
Профиль компании
Институт исследования технологий рекури (LSRPTR)

Институт исследований в области фотоэлектрических технологий (RSRPTR), также известный как Институт исследований в области рекургандов, связан с China Haaheng International Trade Group Co., Ltd. (CHHGC). В качестве инвестиционного привлекательного предприятия в городе Чжунъюань науки и техники и строительного подразделения лаборатории Чжунъюань Аврора институт привержен индустриализации научно-технических достижений, ориентируясь на рыночный спрос.

 

Технического сотрудничества

Институт исследований в области рекури наладел техническое сотрудничество с многочисленными известными отечественными и зарубежными университетами, научно-исследовательскими институтами и платформами предприятий, включая:
 
Университет Цинхуа
Университет Ланьчжоу
Университет Чжэнчжоу
Алтайский государственный технический университет России
Северо-Западный политехнический университет
Китайская инженерная академия
Академия наук Хенана
China Electronics Technology Group
Группа CGN
Университет Сямынь
Университет Хенана
Национальный университет
Университет электронной науки и техники Китая
Академия наук Китая
Китайская академия инженерной физики
Китайская судостроительная группа
China Electronics Group
Группы по проверке в Хенан
 

Области исследований и разработок

* Применение микроэлектромеханической и литографической технологии
* Технология оптоэлектроники и спектроскопии
* высокомощная технология подготовки лазерных устройств и устройств
* Применение ядерных приборов и систем аварийного оборудования

 

Представляем передовые технологии и продукты

Институт исследований в области естественных наук постоянно внедряет новые передовые технологии и продукты в таких областях применения, как надзор за рынком, общественная безопасность, мониторинг окружающей среды, а также наука, образование, исследований и производства. Это привело к формированию отечественной базы высокотехнологичной отрасли научной техники, которая объединяет в себе дизайн, исследования и
разработки, производства, продаж и услуг. Эта база стимулирует итерацию технологий в отрасли, которая используется в производстве, повышает уровень трансформации и индустриализации научно-технических достижений и предоставляет технологические источники для инновационного развития.


New Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated CircuitNew Lslm-500 Step Lithography Machine Used Integrated Circuit

Свяжитесь с нами

Пожалуйста, не стесняйтесь дать свой запрос в форме ниже мы ответим вам в течение 24 часов